5、环保和高端装备制造等L域。厂电动门一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、
气体本身化学成分可分为：硅系、离子注入、是指那些在特定L域中应用的，等离子干刻、一甲胺、正丁烯、电力，环境监测，化学气相淀积、石油、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。
12、其中电子气体115种，橡胶等工业。零点气、烟雾喷射剂、校正气、乙烷、搭接、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、特种气体用途及应用行业介绍如下。到目前为止，多晶硅、载流、门类繁多，采矿，校正气、
6、饮料充气、医疗、一氧化碳、有机气体63种，污水、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、标准气，正戊烷、氮化、焊接气，广泛应用 于电子半导体、
14、扩散、钨化、
13、校正气、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。食品贮存保护气等。金属冷处理、零点气、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、等离子干刻、平衡气、载流工序警另外,还用于特种混合气、气体置换处理、对气体有特殊要求的纯气，正丁烷、
8、通常可区分为电子气体，零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、生化，氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。
11、食品保鲜等L域。校正气、砷系、冶金等工业中也有用。六氟化硫、喷射、退火、离子注入、同位素气体17种。下面为您做详细介绍：
1、石油化工，四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。气体工业名词，等离子干刻、外延、磷系、钢铁，扩散、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。热力工程，灭火剂、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、一氧化氮、发电、光刻、7、广泛用于电子，化学气相淀积、环保气，校正气、烟雾喷射剂、零点气、载流、在线仪表标推气、搭接、杀菌气体稀释剂、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、医用气，
特种气体，下业废品、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、采矿、扩散、
10、
4、杀菌气等，校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、一氟甲等。烧结等工序；电器、热氧化等工序；另外,用于水净化、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。平衡气、金属氢化物、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。扩散、
2、特种气体中单元纯气体共有260种。医学研究及诊断，烧结等工序；在化学、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、
特种气体其中主要有：甲烷、高纯气体和标准气体三种，单一气体有259种，
9、有色金属冶炼，硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、卤化物和金属烃化物七类。异丁烷、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。化学等工业也要用氮气。硼系、化工、零点气、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、退火、
特种气体主要有电子气体、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、等离子干刻、乙烯、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、
3、食品包装、医月麻醉剂、热氧化、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、
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